Theoretical sputtering yields of Al and Mg targets in physical vapour deposition processes - Inria - Institut national de recherche en sciences et technologies du numérique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2001

Theoretical sputtering yields of Al and Mg targets in physical vapour deposition processes

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Physique Classique [physics.class-ph]

Regine Gschwind  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00447681

Soumis le : vendredi 15 janvier 2010-15:38:54

Dernière modification le : jeudi 13 avril 2023-09:26:11

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00447681 , version 1 (15-01-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00447681 , version 1

Citer

J.M. Bordes, C.H. Bordes, E. Ehret, Regine Gschwind, Ph. Bauer. Theoretical sputtering yields of Al and Mg targets in physical vapour deposition processes. Journal of Vacuum Science and Technology, 2001, 19 (3), pp.805-811. ⟨hal-00447681⟩

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